柱溫是
HILIC 分離中的一個(gè)重要參數，它會(huì )影響流動(dòng)相粘度、溶質(zhì)擴散率以及分析物在流動(dòng)相和固定相之間轉移的能量。 通常在 HILIC
中，觀(guān)察到保留時(shí)間減少，柱溫升高。 正如我們已經(jīng)討論過(guò)的，HILIC 保留機制主要基于分區。
親水分析物從高乙腈含量的疏水本體流動(dòng)相轉移到親水水層是一個(gè)放熱過(guò)程。 因此，它在較低溫度下受到青睞（圖 1）。
優(yōu)化柱溫可以提高分析性能，在更高的溫度下執行更快的運行。
圖 1. 分析物從流動(dòng)相轉移到 HILIC 固定相的示意圖。 在大多數情況下，該過(guò)程在較低溫度下是有利的。
這種一般行為的主要例外是在硅膠柱上分離堿性分析物或在氨基柱上分離酸性分析物的情況。
在帶電分析物和帶電固定相之間存在強靜電吸引力時(shí)，提高柱溫會(huì )導致保留時(shí)間增加。
對這種現象的解釋是基于以下考慮：在水溶液中兩個(gè)帶相反電荷的基團之間形成離子對是一個(gè)吸熱過(guò)程，在較高溫度下得到支持（圖 2）。
圖 2. 帶電分析物從流動(dòng)相轉移到 HILIC 固定相的示意圖。 在較高溫度下有利于形成離子對。
混合物中不同類(lèi)型的化合物可能對保留機制、更多的分配或更多的靜電相互作用有不同的貢獻。 因此，柱溫也會(huì )影響它們的選擇性，導致洗脫順序的變化。
柱溫的升高可以提高更多配置之間的分析物轉化率。 例如，碳水化合物和類(lèi)似化合物以幾種互變異構形式的混合物存在于水溶液中，導致出現寬峰或分離峰。 柱溫升高具有將不同形式合并為單個(gè)窄峰的效果。
在 HILIC 中，柱溫通常設置在 10 到 60°C 之間。 根據固定相穩定性和分析物穩定性，可以使用更高的溫度值。
值得指出的是，與流動(dòng)相的組成相比，溫度的變化對保留的影響較小。
在 HILIC 方法的開(kāi)發(fā)過(guò)程中，應按以下順序優(yōu)化色譜參數：
(1) 流動(dòng)相中的有機物含量
(2) 流動(dòng)相的鹽濃度和 pH 值
(3) 柱溫
